半导体晶圆制备中位错缺陷的形状和漫衍情形对电子元器件的性能有较大影响，，，，，由于掺杂质料、制备工艺的差别，，，，，位错漫衍也差别 。。。。 。。。本装备用于检查晶圆位错形态和漫衍，，，，，为晶圆质料研究、刷新制备工艺提供数据支持 。。。。 。。。 适用于2吋、3吋、4吋和6吋砷化镓衬底 。。。。 。。。
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